避免PECVD工序中石墨舟印的处理工艺

本发明涉及硅太阳能电池制造技术领域，尤其涉及一种避免PECVD工序中石墨舟印的处理工艺，包括以下步骤：将存放时间超过4小时的石墨舟搬运至管式PECVD机台，对石墨舟进行洗舟工艺加载，

洗舟工艺步骤为：开始、进舟、抽真空、吹扫、抽真空、检漏、抽真空、恒温、恒压、淀积一、抽真空、吹扫、淀积二、抽真空、吹扫、抽真空、充氮、取舟、结束，将运行过洗舟工艺后的石墨舟从炉管中取出后，按正常工艺本实用新型公开了一种便于标记的石墨舟卡点及石墨舟，

便于标记的石墨舟卡点包括安装部以及卡点单元；每个所述卡点单元依次包括承载部和表面部；沿着每个所述卡点单元的表面部均设置有线形缝隙镂空，且垂直于所述表面部的径向方向有参考线；所述线形缝隙镂空与所述参考线之间存在夹角。上述石墨舟，

是包含了上述适用于石墨舟的卡点的载体装置。本实用新型提供的便于标记的石墨舟卡点及石墨舟，